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特气管道五项检测
氧含量检测
成品阐述:
晶片在生产过程中, 原本大气中O2会和Si产生化学反应得O2+Si=SiO2(二氧化矽)为原始的氧化层, 如果管路的氧含量过高, 原始的氧化层会超出原本已计算好的厚度, 如此会严重影响接下来各阶段的制程。
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产品详情
规格参数
晶片在加工期间中, 那样美观中O2会和Si产生了化学式症状得O2+Si=SiO2(二阳极硫化矽)为初始的阳极硫化层, 如若输送管的氧分量过高, 初始的阳极硫化层会大于那样已计算出好的层厚, 如此这般会厉害的影响反驳来各环节的制造。